株式会社ノベルクリスタルテクノロジーへの出資に関するお知らせ

2020年06月30日

当社は、β型酸化ガリウム（β－Ga2O3）の開発を行う株式会社ノベルクリスタルテクノロジー（本社：埼玉県狭山市、代表取締役社長：倉又朗人）の第三者割当増資の一部を引受けることで出資を実施いたしましたので、下記のとおりお知らせします。

出資の目的

β型酸化ガリウムは、シリコンカーバイド（SiC）や窒化ガリウム（GaN）よりもバンドギャップが広く、デバイスとした時に高耐圧化・大電流化が容易で、耐環境性能に優れた材料特性を持ちます。また半導体作製プロセスにおいて一般的な技術である、液相での結晶成長および気相でのエピタキシャル層成長を用いるため、SiCなどと比較して製造コスト面で有利になることが期待されます。

当社が長年培ってきたパワー半導体設計・評価技術やモジュール実装技術を、ノベルクリスタルテクノロジー社のβ型酸化ガリウムパワーデバイス開発へ融合することで製品化を加速し、比較的大きな電力を必要とする産業機器用インバータやEV駆動モータ用インバータ向け半導体製品への展開を目指します。
また当社において、電源回路技術を応用しβ型酸化ガリウムパワーデバイスの低損失特性をもっとも効果的に利用できるアプリケーションの開発も進めてまいります。

当社は、既存シリコンパワーデバイスに加え、新しい材料であるSiCやGaN、そして今回のβ型酸化ガリウムを用いた次世代低損失パワー半導体の開発へ積極的にコミットし、電力変換効率を極限まで高めることで低炭素社会へ貢献してまいります。

【ご参考】
株式会社ノベルクリスタルテクノロジーについて
2015年6月に設立して以来、β－Ga2O3単結晶基板・エピタキシャルウェーハの開発・製造・販売、及び、それらを用いたパワーデバイスの開発を行っています。

お問い合わせ先

新電元工業株式会社
経営企画室企画部　広報・IR
TEL 03-3279-4448